【科技新聞】EUV專利技術成晶片製造商戰場 EUV是什麼?

2020-11-19



科技日新月異,要在科技行業中傲視全球,時刻掌握最新技術,可說是必要的。對於手機零件製造商而言,最新的EUV技術可謂當中的關鍵戰場。
 
所謂的EUV技術,意即「超紫外線平版印刷術」,利用極紫外光(即EUV)將電路圖案印到晶圓的光阻劑塗層。EUV的光源波長比目前通用的DUV(深紫外線)的光源波長短,只有DUV光源波長的十五份之一,因此能夠用於線距更小光罩上的電路圖案之曝光上,對於製作半導體套件技術以至新一代的記憶體裝置和晶片非常重要。
 
於製作晶片上,現今的龍頭是來自台灣的台積電。然而,EUV的專利技術數量,卻以韓國企業居冠。於2019年,南韓企業或單位提出有關EUV的申請數量首次超越國外企業,這將有利於南韓未來發展EUV技術,從而在新一代的半導體以至記憶體市場中搶佔先機。
 
統計數字顯示,提交及南韓知識產權局的EUV專利技術,2014年有88宗,2018年有55宗,以2019年有50宗。於2019年的50宗裏,有40宗為南韓本地企業,遠超國外企業的10宗申請,預期是項趨勢仍會持續下去。
 
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文字:CoolJobz、Technews、綜合網絡資料
圖片來源:ASML
 
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